近年，我国首台高精度光刻机在合肥通过了以两位中国工程院院士张钟华、叶声华为代表的9人专家组的鉴定。专家一致认定，由芯硕半导体(中国)有限公司生产的中国首台亚微米级无掩膜(直写式)光刻机，其分辨率已达到0.65微米以下，性能稳定可靠，填补了国内光刻机在该领域的空白，在国际同类产品中居先进水平，打破了我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面。

　　据悉，近年来自美国硅谷的5名投资创业者来到合肥，成立芯硕半导体(中国)有限公司，投资研发国内首台直写式光刻机，并拥有多项集成电路设备制造的关键技术及相关专利，去年11月底，该机成功面世。其生产的无掩膜(直写式)光刻机与国际同类产品相比在兼顾了高产能与高分辨率的同时，极大降低了使用成本，且应用范围十分广泛。相比国际同类产品不仅可应用于半导体行业，而且还可广泛应用于生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域。其最大特点在于亚微米级的高分辨率、高产能、操作便捷、运行成本低。